半導體超純水介紹

隨著半導體工(gong)業的不(bu)斷發展，對(dui)清潔(jie)水(shui)(shui)(shui)的電(dian)導率、離子(zi)(zi)含量、TOC、do和(he)顆粒物(wu)的要求(qiu)越來(lai)越嚴(yan)格(ge)(ge)。由于超純(chun)水(shui)(shui)(shui)在許多(duo)指標(biao)上對(dui)半導體的要求(qiu)很(hen)高(gao)，因此半導體行業的超純(chun)水(shui)(shui)(shui)與其他(ta)行業的用水(shui)(shui)(shui)要求(qiu)不(bu)同。半導體行業對(dui)超純(chun)水(shui)(shui)(shui)有嚴(yan)格(ge)(ge)的水(shui)(shui)(shui)質要求(qiu)。目前(qian)，半導體所用的超純(chun)水(shui)(shui)(shui)需要達到的水(shui)(shui)(shui)質標(biao)準為:我(wo)國(guo)(guo)電(dian)子(zi)(zi)工(gong)業部電(dian)子(zi)(zi)級水(shui)(shui)(shui)質技(ji)術標(biao)準(18MQ.cm、15MO.cm、10MO.cm、2M.O.cm、0.5M.O.cm五級標(biao)準)，我(wo)國(guo)(guo)電(dian)子(zi)(zi)工(gong)業部高(gao)純(chun)水(shui)(shui)(shui)水(shui)(shui)(shui)質試行標(biao)準，國(guo)(guo)內(nei)外大規模集成電(dian)路水(shui)(shui)(shui)質標(biao)準等。

那么，如何產出(chu)高質(zhi)量(liang)的半導體超純水?

建議(yi)采用(yong)(yong)“兩級RO+EDl+精混床除鹽水(shui)處(chu)(chu)理(li)(li)工藝(yi)”這(zhe)類的(de)(de)超(chao)純水(shui)設(she)(she)備(bei)(bei)，可保證處(chu)(chu)理(li)(li)后(hou)的(de)(de)水(shui)電阻(zu)和電電阻(zu)達到18MO.cm以上(shang)。除了(le)(le)采用(yong)(yong)以上(shang)工藝(yi)外，結構設(she)(she)計也需(xu)要相對(dui)緊湊(cou)，這(zhe)樣一(yi)來占地面積小可為(wei)企業節省(sheng)大量建設(she)(she)空(kong)間。這(zhe)種半導體超(chao)純水(shui)設(she)(she)備(bei)(bei)出廠前(qian)都是需(xu)進行壓力測驗的(de)(de)，所以出現故(gu)障概率小。還可以配備(bei)(bei)反滲透預脫鹽技術，再次從根本上(shang)確(que)保了(le)(le)水(shui)處(chu)(chu)理(li)(li)設(she)(she)備(bei)(bei)的(de)(de)出水(shui)質量。

電(dian)子級水(shui)UV-TOC控(kong)制系統

半導體超純水介紹產品規格：

集(ji)成電路超(chao)純(chun)水應(ying)用(yong)領域(yu)：

1. 半導(dao)體材料、器件(jian)、印刷電路(lu)板(ban)(ban)和(he)集成電路(lu)板(ban)(ban)

2. 電(dian)解電(dian)容(rong)器(qi)生產鋁箔及工作件的(de)清(qing)洗

3. 電(dian)子管(guan)生產(chan)、電(dian)子管(guan)陰極(ji)涂(tu)敷(fu)碳酸鹽配(pei)液(ye)

4. 黑白顯像管熒光屏的生產、波殼清洗(xi)(xi)、沉淀(dian)、洗(xi)(xi)膜、管頸清洗(xi)(xi)

5. 液晶顯(xian)示器的生產、屏(ping)面清洗

6. 集成電路生產中高(gao)純水清洗硅片

7. LCD液晶顯示屏、PDP等離(li)子(zi)顯示屏的(de)生產