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MP UV-H2O2技(ji)(ji)術:中壓(ya)紫外(MP UV) 消毒技(ji)(ji)術是基于(yu)中壓(ya)紫外燈(deng)技(ji)(ji)術發展而來,中壓(ya)紫外燈(deng)具(ju)有功(gong)率高(gao)(單支>1kW)、體積小(xiao)、廣(guang)譜性(主要波長范圍在(zai)180-480nm之間)等特點,可(ke)促進H2O2分解(jie)產生羥(qian)基自由基,有效處理(li)高(gao)濃度難降解(jie)廢(fei)水。
技術原理:在(zai)紫外線激發下H2O2可產(chan)(chan)生(sheng)具有(you)很強氧(yang)化(hua)(hua)性的羥基自由基,可將有(you)機(ji)污染物最終礦化(hua)(hua)為CO和H2O,其(qi)中間產(chan)(chan)物具有(you)較多含氧(yang)官(guan)能團, 有(you)效提高了廢水的可生(sheng)化(hua)(hua)性。
圖1光(guang)催(cui)化氧(yang)化反應原(yuan)理(li)
UV光催化高級氧化技術優勢(shi)
1) 處理高濃度廢水和難降解廢水, 有效(xiao)降低COD及(ji)TOC指標(biao)。
2) 針對(dui)單一污染物的100%降解(jie)
3) 經處理后的廢水生化性有效提高(gao)(gao)(最(zui)高(gao)(gao)可達100%)
4) 系統可將污(wu)染物有效(xiao)降解或(huo)直(zhi)接礦化,不產生二次污(wu)染
5) 集成化設備(bei)(bei),物聯網云控(kong)制技術,可通過(guo)手機APP/電腦終端24h監(jian)控(kong)設備(bei)(bei)運行狀態并對設備(bei)(bei)進行操控(kong)
安(an)力斯高濃度(du)難降解(jie)廢(fei)水光催化氧化技術的應用
1) 高濃度高難度化工廢(fei)(fei)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)(芳香烴廢(fei)(fei)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui) ,含苯廢(fei)(fei)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui),染料廢(fei)(fei)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui),有(you)機氮廢(fei)(fei)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui),有(you)機磷廢(fei)(fei)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui),有(you)機硫廢(fei)(fei)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui) ,EDTA、MTBE、NDMA等廢(fei)(fei)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)
2) 制藥廢水(shui)(shui)(氨基(ji)酸廢水(shui)(shui),抗生素廢水(shui)(shui),甲(jia)醇(chun)(chun)、乙醇(chun)(chun)、甲(jia)酸類廢水(shui)(shui),糖(tang)類、蛋(dan)白質、脂類廢水(shui)(shui))
3) 垃圾滲(shen)濾(lv)液(腐殖(zhi)酸(suan)廢水,苯(ben)胺、烷基(ji)苯(ben)胺、鄰硝基(ji)苯(ben)胺等廢水,磷酸(suan)酯(zhi)(zhi)、鄰苯(ben)二甲酸(suan)酯(zhi)(zhi)、酚類等廢水)
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