半導體超純水設備在半(ban)導(dao)體(ti)生(sheng)產中主要(yao)用(yong)于清洗硅片(pian)。少量水(shui)用(yong)于配(pei)制(zhi)藥劑、硅片(pian)氧化的蒸汽源(yuan)、某些設備的冷卻(que)水(shui)、電(dian)鍍溶液(ye)的配(pei)制(zhi)。產品的質(zhi)量與產量密切(qie)相關。水(shui)中的堿金(jin)屬(shu)(K、Na等(deng))會(hui)(hui)使絕緣膜耐壓不良，重金(jin)屬(shu)(Au、Ag、Cu等(deng))會(hui)(hui)降低(di)PN結的耐壓力(li)，III族元素 (B、Al、Ga等(deng))會(hui)(hui)使N型(xing)(xing)半(ban)導(dao)體(ti)特性(xing)惡(e)(e)化，V族素(P、As、Sb等(deng))會(hui)(hui)使P型(xing)(xing)半(ban)導(dao)體(ti)特性(xing)惡(e)(e)化。細(xi)(xi)菌高溫(wen)炭化水(shui)中的磷(約為灰分的20%~50%)會(hui)(hui)使p型(xing)(xing)硅片(pian)局部變為N型(xing)(xing)硅片(pian)，導(dao)致器件性(xing)能(neng)下(xia)降。水(shui)中的顆粒，包括(kuo)細(xi)(xi)菌，如果附(fu)著在硅片(pian)表(biao)面(mian)，會(hui)(hui)導(dao)致短(duan)路或性(xing)能(neng)惡(e)(e)化。可見(jian)，超純(chun)水(shui)在半(ban)導(dao)體(ti)行業的必(bi)要(yao)性(xing)。

產品介紹：

Onyx的(de)(de)(de)EX-UPW-TOC產(chan)品(pin)主要由高透185nm的(de)(de)(de)紫(zi)外(wai)燈管，高輸出(chu)石英(ying)套管，內外(wai)電(dian)解(jie)拋光的(de)(de)(de)一體化紫(zi)外(wai)反(fan)應(ying)器，高度(du)精確的(de)(de)(de)UV強(qiang)度(du)傳(chuan)感(gan)器及智能自控系(xi)統組成。

185nmUV主要用于生產超(chao)純(chun)水(shui)(shui)過程中去(qu)除TOC有機物，降低(di)TOC出水(shui)(shui)指標(biao)，使出水(shui)(shui)滿足美國ASTM超(chao)純(chun)水(shui)(shui)水(shui)(shui)質(zhi)標(biao)準(zhun)及電子(zi)工業部電子(zi)級水(shui)(shui)水(shui)(shui)質(zhi)標(biao)準(zhun)。

電(dian)子級水(shui)UV-TOC控制系統

 半導體超純水設備產品規格：

集成電路超純水(shui)應用(yong)領域：

1. 半導體材料、器件、印刷電(dian)路(lu)板和集成電(dian)路(lu)板

2. 電(dian)解電(dian)容器生產(chan)鋁箔(bo)及工作件的(de)清洗(xi)

3. 電子管(guan)生產(chan)、電子管(guan)陰極涂敷碳(tan)酸鹽配液

4. 黑白(bai)顯像(xiang)管熒(ying)光屏的生產、波殼(ke)清洗(xi)(xi)、沉淀、洗(xi)(xi)膜、管頸清洗(xi)(xi)

5. 液(ye)晶(jing)顯示器(qi)的生產、屏面清洗

6. 集成(cheng)電路生產中高純水清洗硅(gui)片

7. LCD液晶(jing)顯示(shi)(shi)屏(ping)、PDP等離子顯示(shi)(shi)屏(ping)的生(sheng)產