半導體超純水設備在半(ban)導(dao)(dao)體生產中(zhong)主要用(yong)于清(qing)洗(xi)硅片。少量水(shui)用(yong)于配制(zhi)藥劑、硅片氧化(hua)(hua)的(de)蒸(zheng)汽源、某些(xie)設備的(de)冷卻水(shui)、電鍍溶液(ye)的(de)配制(zhi)。產品(pin)的(de)質量與產量密切相(xiang)關(guan)。水(shui)中(zhong)的(de)堿金屬(shu)(K、Na等(deng)(deng))會(hui)使絕緣(yuan)膜耐壓不良(liang)，重金屬(shu)(Au、Ag、Cu等(deng)(deng))會(hui)降低PN結(jie)的(de)耐壓力，III族元素 (B、Al、Ga等(deng)(deng))會(hui)使N型半(ban)導(dao)(dao)體特性惡化(hua)(hua)，V族素(P、As、Sb等(deng)(deng))會(hui)使P型半(ban)導(dao)(dao)體特性惡化(hua)(hua)。細(xi)菌(jun)高溫炭化(hua)(hua)水(shui)中(zhong)的(de)磷(約為(wei)灰分的(de)20%~50%)會(hui)使p型硅片局(ju)部變為(wei)N型硅片，導(dao)(dao)致(zhi)器件性能下降。水(shui)中(zhong)的(de)顆粒，包(bao)括細(xi)菌(jun)，如果(guo)附著(zhu)在硅片表面，會(hui)導(dao)(dao)致(zhi)短路或性能惡化(hua)(hua)。可見，超(chao)純水(shui)在半(ban)導(dao)(dao)體行業(ye)的(de)必要性。

產品介紹：

Onyx的(de)EX-UPW-TOC產(chan)品(pin)主要由高(gao)(gao)透185nm的(de)紫外(wai)燈管(guan)，高(gao)(gao)輸出石英(ying)套管(guan)，內(nei)外(wai)電解拋光的(de)一體化(hua)紫外(wai)反應器，高(gao)(gao)度精(jing)確(que)的(de)UV強度傳感器及(ji)智能自控系統組成。

185nmUV主(zhu)要用于(yu)生產超(chao)純(chun)水(shui)(shui)過程中去(qu)除TOC有機物，降低(di)TOC出(chu)水(shui)(shui)指標(biao)(biao)，使出(chu)水(shui)(shui)滿足(zu)美(mei)國ASTM超(chao)純(chun)水(shui)(shui)水(shui)(shui)質標(biao)(biao)準(zhun)及電子工業部電子級水(shui)(shui)水(shui)(shui)質標(biao)(biao)準(zhun)。

電子級水UV-TOC控制系(xi)統

半導體超純水設備產品規格：

集(ji)成電路超純水應用領域：

1. 半導體材料、器件、印刷電路(lu)板(ban)和集成電路(lu)板(ban)

2. 電解電容器生產鋁箔及工作件的(de)清洗(xi)

3. 電子(zi)管生產、電子(zi)管陰極涂敷碳酸鹽配液

4. 黑白顯像管熒光屏的(de)生產、波(bo)殼清洗(xi)、沉淀、洗(xi)膜、管頸清洗(xi)

5. 液晶顯示器的(de)生(sheng)產、屏面清(qing)洗

6. 集成電(dian)路生產中高純水清洗(xi)硅片

7. LCD液晶(jing)顯示屏、PDP等離子顯示屏的(de)生產