TOC超純水

微電子行業制(zhi)備超(chao)純水(shui)流程中(zhong)(zhong)，因紫外線技術在超(chao)純水(shui)高品質(zhi)要求中(zhong)(zhong)不(bu)引入新的物質(zhi)，而得到(dao)廣泛(fan)應用。

有機(ji)物是超(chao)純(chun)水(shui)系統(tong)中最難控制(zhi)的(de)污染(ran)，隨著集成電路臨界尺(chi)寸不(bu)(bu)斷縮小(xiao)挑戰(zhan)，對超(chao)純(chun)水(shui)中TOC值的(de)要(yao)求越來越高(gao)，因此，如何(he)配(pei)置紫外(wai)(wai)線(xian)，如何(he)確認配(pei)置中紫外(wai)(wai)線(xian)設備的(de)有效(xiao)紫外(wai)(wai)劑量，進而使TOC去除合格且水(shui)中溶解(jie)氧不(bu)(bu)升高(gao)，安(an)力斯將為您解(jie)決這些運營(ying)困擾。

185nmUV主要用于(yu)去除(chu)超(chao)純(chun)水(shui)(shui)制備過(guo)程中的TOC，使出水(shui)(shui)滿足美國ASTM超(chao)純(chun)水(shui)(shui)水(shui)(shui)質標(biao)準及電子(zi)工業部電子(zi)級水(shui)(shui)水(shui)(shui)質標(biao)準。

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